產品詳情
                                            • 產品名稱:PECVD鍍膜儀

                                            • 產品型號:CY-PECVD-450
                                            • 產品廠商:成越科儀
                                            • 產品文檔:
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                                            簡單介紹:
                                            CY-PECVD-450化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,能夠利用高能量等離子體促進反應過程,有效提升反應速度,降低反應溫度。適用于在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜質量好,針孔較少,不易龜裂,適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件,可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
                                            詳情介紹:

                                            技術參數:

                                            產品型號

                                            CY-PECVD-450

                                            真空腔體

                                            前開門式,φ300mm X 300mm 不銹鋼材質

                                            觀察窗:φ100mm 帶擋板

                                            真空泵組

                                            前級泵:旋片泵 抽速1.1L/s

                                            次級泵:渦輪分子泵 抽速600L/s

                                            極限真空度

                                            10-6Pa

                                            三十分鐘內可達到 10-4Pa

                                            沉積真空

                                            0.133~133Pa,可根據工藝調整

                                            射頻電源

                                            13.56MHz,500W,自動匹配

                                            流量控制

                                            質量流量計,默認 Ar氣 0~200sccm

                                            整機尺寸

                                            1100mm x 800mm x1100mm

                                            豫公網安備 41019702002438號

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